一臺(tái)光刻機(jī)一天能產(chǎn)多少芯片

光刻機(jī)又叫掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。光刻也被稱為光學(xué)平版刻法或紫外光刻，是一種在薄膜或基板（也被稱為“晶圓”）上對(duì)零件圖形化的精密加工工藝。簡(jiǎn)單來說，光刻機(jī)就是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機(jī)的成像比例不同，有5:1的，也有4:1的。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖（即芯片）。

那么一臺(tái)光刻機(jī)一天能產(chǎn)多少芯片呢?接下來小編就給科普一下關(guān)于光刻機(jī)產(chǎn)量的相關(guān)知識(shí)，希望能對(duì)您有所幫助！

在光刻機(jī)的領(lǐng)域，一項(xiàng)關(guān)鍵指標(biāo)被稱為WPH，即一小時(shí)單位產(chǎn)能。現(xiàn)代先進(jìn)的DUV光刻機(jī)已經(jīng)能夠達(dá)到每小時(shí)處理200片以上。然而，光刻機(jī)數(shù)量有限，一家半導(dǎo)體工廠通常只有大約10多臺(tái)，這些光刻機(jī)的性能也不盡相同。舉例來說，一個(gè)擁有3萬片產(chǎn)能的28納米工藝工廠可能只有2臺(tái)最先進(jìn)的光刻機(jī)，其他光刻機(jī)則采用不同的型號(hào)。

但是，光刻機(jī)的最大WPH只是影響月產(chǎn)能的一部分因素。28納米工藝需要經(jīng)歷多次光刻步驟，每片晶圓通常需要反復(fù)曝光13到15次。因此，產(chǎn)能的瓶頸并不只是光刻機(jī)，還包括其他制程設(shè)備的性能和數(shù)量。

關(guān)于光刻機(jī)是否夠本，需要從產(chǎn)業(yè)壽命周期的角度來看。光刻機(jī)的前道設(shè)備，盡管可能看似利潤有限，但在長(zhǎng)期發(fā)展中，這些設(shè)備成為了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。在中國這樣龐大的國內(nèi)市場(chǎng)中，一個(gè)產(chǎn)業(yè)集群具有巨大的消化能力。因此，前道光刻機(jī)的成本可以逐漸被消化，而不是成為制約產(chǎn)業(yè)發(fā)展的因素。

然而，對(duì)于前道光刻機(jī)制造裝備，特別是高端前道光刻機(jī)，中國目前仍然存在研發(fā)和制造上的短板。全球最強(qiáng)大的光刻機(jī)制造商ASML的市場(chǎng)份額在全球達(dá)到了80%，這反映出了中國在前道光刻機(jī)領(lǐng)域的不足。然而，光刻機(jī)只是半導(dǎo)體生產(chǎn)線的一部分，而且中國在其他制程設(shè)備方面已經(jīng)有了一定的實(shí)力。

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