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水基清洗工藝技術(shù)優(yōu)勢

發(fā)布日期:2023-05-04 發(fā)布者:合明科技 瀏覽次數(shù):4365

水清洗工藝主要特點是不易燃易爆、無毒環(huán)保、操作安全,清洗能力強、清洗過程中損耗小、成本低,因為有效成份自由度大,可由PCBA的特殊要求而制定配方,解決了很多有機溶劑清洗劑無法解決的難題,清洗范圍廣、適用能力強。

水基清洗劑與溶劑型清洗劑綜合對比

水基清洗工藝的清洗原理是借助其表面活性劑、乳化劑、滲透劑中成分含有的潤濕、乳化、分散、滲透、溶解等特性來對工件表面進行強力清洗。沒有底部端子器件的PCBA和半導體電子元器件,可以采用噴淋式水基清洗劑或清洗設(shè)備清洗;有底部端子器件的PCBA,則宜采用具有浸泡、超聲波震動、空氣攪拌和涌流(射流)技術(shù)的水基清洗設(shè)備來清洗。

水基清洗工藝技術(shù)優(yōu)勢

1、清洗負載能力高,可過濾性好,使用壽命長,維護成本低。

2、良好的溶解力,能夠有效清除元器件底部細小間隙中的殘留物,清洗之后焊點保持光亮。

3、配方溫和,具有極好的材料兼容性。

4、低VOC值,能夠滿足VOC排放的相關(guān)法規(guī)要求。

5、采用去離子水做溶劑,無閃點,使用安全,不需要額外的防爆措施。

6、不含固體物質(zhì),清洗后無需漂洗,無固體殘留,無發(fā)白現(xiàn)象。

7、氣味小,對環(huán)境影響小。

Tips:

【閱讀提示】

以上為本公司一些經(jīng)驗的累積,因工藝問題內(nèi)容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷更新?lián)Q代,新的工藝問題也不斷出現(xiàn),本公司自成立以來不斷的追求產(chǎn)品的創(chuàng)新,做到與時俱進,熟悉各種生產(chǎn)復雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設(shè)備、材料的清洗解決方案支持。

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